概述
    在設備設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水出水水質電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。我們公司專業生產RO＋EDI＋精混床超純水設備，有多年的生產經驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業技術都是比較成熟，我們也有做過很多各行業的水處理設備，這方面我們有豐富的經驗。我們公司做出來的設備質量比他們都有優勢，在國內具有一定的市場竟爭力。該產品由于具備性能好、價格低于國外同類產品價格、供貨及時、售后服務方便快捷等諸多優勢。在太陽能光伏電池、LED、LCD、顯像管、液晶顯示器、半導體、光電光學企業的脫鹽水和超純水裝置，得到了業界的廣泛贊譽，歡迎廣大客戶前來參觀考察。半導體行業，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求。
 

半導體行業用超純水水質標準：
    我公司半導體行業用超純水出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
半導體行業用超純水設備對水質的要求：
    新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體行業超純水設備應用場合：
☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
☆黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質顯像管、螢光粉生產
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
☆實驗室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產品、其他高科技精微產品
半導體行業用超純水制備工藝流程圖：

設備優點
    為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。